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下田茂

アイデア等を特許・商標等の権利にするプロ

下田茂(しもだしげる)

みらい国際特許事務所 長野オフィス

コラム

知的財産の有効活用(3)…技術情報

知財の活用

2013年10月5日 / 2018年8月18日更新

 特許出願は、出願した日から1年6ケ月後に原則全て公開されます。今はインターネット上で公開されるため、世界中の誰でも出願公開された内容を見ることができます。
 したがって、出願公開された内容を分析することによって様々な情報を得、その情報を利用することができます。自分が興味を持っている技術に関する技術文献としての価値はもちろんのこと、「何処の会社」の「誰」がどのような「技術」を「何時頃」から開発し、どのような「方向」に進んでいったか等も知ることができます。
 出願公開制度は、無用な重複技術開発を回避し、出願公開された技術内容を基礎とした改良、更には新技術の開発を促すことにより、効率的かつ累積的な技術進歩を狙ったものであり、特許制度の根幹をなしています。つまり、特許出願した者に対しては、新技術を公開したご褒美として特許権を付与し、一定期間保護しようとする制度が特許制度の本質です。
 そうであれば、このような制度を利用しない手はありません。公開された内容を分析するツールとしては、主に「パテントマップ」が用いられます。「パテントマップ」は、情報を一目でわかるように図式化したもの(下図参照(出典:発明推進協会のWebページより)であり、「パテントマップ」を上手に利用すれば、机上でも思わぬ発明を完成させることができるかもしれません。



 一方、注意しなければならない点は、「公開」と「保護」がセットになっているため、万が一、「保護」されなかったり「保護」が不十分となった場合、「公開」による他人の利用のみを許すことになり、出願した者が返って損をすることにもなりかねません。即ち、中途半端な特許出願は、取り返しのつかないリスクを伴うことも事実であり、特許出願に際しては、細心の注意とテクニックが必要となります。

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