学会発表　窒化ガリウム膜、酸化ガリウム膜

1)
反応性スパッタ法による窒化ガリウム薄膜の作製
Preparation of Gallium Nitride Thin Films by Reactive Sputtering

2)
酸素/窒素混合ガスを用いた反応性スパッタ法による酸化ガリウム薄膜の作製
Preparation of Gallium Oxide Thin Films by Reactive Sputterring with Oxygen-Nitrogen Mixed Gas

上記2件のテーマについて2023年7月29日の応用物理学会の中国四国支部にて発表しました。
スパッタ法によって、GaNやGa2O3膜をエピタキシャル成長させ特性を評価したものです。

まだ、基礎的な結果ですがいろんな用途に使えるものとして期待しています。
今後も研究を進めていきたいと思います。